首页 > 产业资讯 > 南通同方采用VEECO设备进行硅基氮化镓LED研究

南通同方采用VEECO设备进行硅基氮化镓LED研究

2012-09-19 13:43:28 [编辑：dellafang]

Veeco公司（www.veeco.com）日前宣布南通同方半导体有限公司用于硅基氮化镓高亮度二级发光管研究的TurboDisc K465i MOCVD设备已经交付使用。

南通同方已采用Veeco的设备成功生产基于蓝宝石衬底的氮化镓LED，硅基氮化镓LED将成为其未来几年投资重点，并将继续采用Veeco设备。

Veeco高级副总裁Jeff Hawthorne表示，很多客户均在发展硅基氮化镓技术，在不影响最终产品性能的前提下降低LED制造成本，加快固态照明的普及。

K465i的特点是薄膜品质高、瑕疵率低，这是硅基氮化镓加工艺的关键。它还集成了Veeco的Uniform FlowFlang技术，具有出色的均匀性和优异的重复性。采用TurboDisc技术的设备维修需求低，从而提供最长的连续生产时间、极低微粒子产生的优越性能以及高产量。经过的生设产备验维证修的需K465i提供了易于调试的快速优化工艺，支持最大8英寸的晶圆。
 

‹ 前一则
夏普向日本银团融资3000亿日元自救后一则 ›
科锐扩展产品种类 推出低基面位错4H 碳化硅外延片
相关文章
【版权声明】
「LEDinside - LED在线」所刊原创内容之著作权属于「LEDinside - LED在线」网站所有，未经本站之同意或授权，任何人不得以任何形式重制、转载、散布、引用、变更、播送或出版该内容之全部或局部，亦不得有其他任何违反本站著作权之行为。
【免责声明】
1、「LEDinside - LED在线」包含的内容和信息是根据公开资料分析和演释，该公开资料，属可靠之来源搜集，但这些分析和信息并未经独立核实。本网站有权但无此义务，改善或更正在本网站的任何部分之错误或疏失。
2、任何在「LEDinside - LED在线」上出现的信息（包括但不限于公司资料、资讯、研究报告、产品价格等），力求但不保证数据的准确性，均只作为参考，您须对您自主决定的行为负责。如有错漏，请以各公司官方网站公布为准。