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远方快速光谱辐射计技术获美国发明专利授权

2011-09-29 09:30:21 [编辑：wendymeng]

日前，远方公司快速光谱辐射计的核心技术获得美国发明专利授权，专利号：US 7,978,324 B2。这是公司继分布光度计后获得美国专利授权的又一项自主创新技术。

              
该美国发明专利技术能大幅度提高快速光谱辐射计的杂散光控制和线性动态范围等关键性能，现已经应用到了远方公司的多款快速光谱辐射计产品中，其中，HAAS-2000高精度快速光谱辐射计以其卓越的性能和在半导体照明检测等领域的重要作用，获得中国自主创新产品和重点新产品称号，产品已被CREE，GE，PHILIPS，香港应用科学研究院，清华大学等国内外大企业、科研机构和质检机构改采用，一直处于供不应求状态。

自主创新是远方公司快速成长和保持行业领先地位的根本保障，而且，远方已经懂得用知识产权保护创新成果。分布光度计、光谱辐射计等核心技术相继获得国际专利授权不仅证明了远方公司的自主创新能力和科技实力，也为中国高端检测设备逐步占领国际市场提供有力的法律保障。

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