研讨会直击下篇：深入探讨Micro LED磊晶、转移等技术

2018 Touch Taiwan主办单位举办「2018 国际Micro LED Display产业高峰论坛」，聚集友达光电、eLux、国星光电、隆达电子、X-Celeprint、Veeco、Lumiode、三安光电、TOPCON、集创北方、錼创、奥宝、Sony及工研院等多家重量级讲师，分享Micro LED相关技术应用与未来展望，在这场高峰论坛中主要是针对Micro LED磊晶、转移、色彩化、检测、驱动、设备…等技术做深入的探讨。

Lumiodes的讲师 Vincent提到该公司整合LED及Silicon TFT技术，应用在Micro LED制程技术中，可以减少制程成本及解决量化的问题，并且在Micro display应用中亮度可由现状亮度规格1,000 cd/m2，提升至10,000,000 cd/m2。

三安光电徐宸科副总经理提到未来Micro LED制程技术将遇到的挑战有磊晶技术需要不断的提升，尤其是红光芯片、波长均匀度需要更均匀以及V-I 曲线的控制、巨量转移技术的UPH、设备的精密度、芯片结合技术、生产良率、转移后检测技术、维修技术以及加工成本等。

TOPCON的讲师西川和人介绍利用检测设备做Micro LED产品的色彩及均匀度的检测，并且利用光学模拟软件及算法做Mura的消除分析，以达到有效控制微显示器色彩均匀度的问题。

集创北方的王祎君讲师提到驱动IC在Micro LED显示技术中扮演很重要的角色，可以利用驱动IC及驱动电路的设计，达到De-mura的效果。

錼创科技的执行长李允立分享该公司PixeLED Display的技术开发进展与挑战，提到有关巨量转移的技术理念以及快速且精准的维修技术。

隶属以色列公司的Orbotech讲师Ray指出，Orbotech的检测设备可以提供Micro LED在Backplane、Epi-Wafer、Mass Transfer及Repair制程上做在线的检测，有非常高的精准度。

来自日本Sony的Tatsuya介绍Crystal LED在2018 CES展的产品及现阶段的安装实绩，并且说明Crystal LED拼接技术及相关性能特色。

最后则由工研院林建中博士分析Micro LED技术应用与展望，工研院早在2009年发展Micro LED的产品，2014年发表单色的产品，2016年进入全彩化的产品，目前也朝向不同的基材(CMOS及PI)方向研究发展，从过去的历史经验来看，未来Micro LED将会随技术的突破而快速的加速发展及应用。（文：Simon/LEDinside）

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