中微公司刻蚀设备反应台全球出货超5000台

3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布其等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台。这包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。

中微公司介绍，等离子体刻蚀机，是光刻机之外，最关键的、也是市场最大的微观加工设备。由于微观器件越做越小和光刻机的波长限制，也由于微观器件从二维到三维发展，刻蚀机是半导体设备过去十年增长最快的市场。

图片来源：拍信网正版图库

中微公司的等离子体刻蚀设备不断扩大市场占有率，其中，CCP设备在线累计装机量近四年年均增长大于37%，已突破4000个反应台；ICP设备在线累计装机量近四年年均增长大于100%，已突破1000个反应台。截至2025年2月底，公司累计已有超过5400个反应台在国内外130多条生产线，全面实现了量产和大规模重复性销售。

资料显示，中微公司主要销售等离子体刻蚀设备、薄膜设备、MOCVD设备等高端半导体及泛半导体设备产品。

据业绩快报显示，中微公司2024年营业收入约90.65亿元，较2023年增加约28.02亿元。其中，刻蚀设备收入约72.77亿元，同比增长约54.73%。（来源：中微公司）

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