中微公司透露MiniLED量产用MOCVD设备最新细节

在近日的"SSLCHINA 2021：Mini/Micro LED技术产业应用论坛"上，中微半导体设备（上海）有限公司MOCVD工艺技术总监胡建正分享了中微用于蓝绿光MiniLED生产的MOCVD设备-Prismo UniMax®的最新进展。

胡建正介绍，与用于照明的传统LED相比，Mini/Micro LED对外延片的波长均匀性和颗粒数量有更严苛的要求，需要开发新型MOCVD平台以提高外延片的波长均匀性、降低颗粒数量，从而实现Mini/Micro LED的商业化应用。

而中微最新开发的可用于MiniLED大规模生产的MOCVD平台Prismo UniMax®，通过局部温场精细调控与流场的优化，在4"和6"衬底上生长的蓝绿光LED实现了很好的波长均匀性。在41×4" 配置条件下，蓝光LED片内和片间波长均匀性也很高，分别为0.71 nm和0.87 nm（1σ）；在10×6" 配置条件下，其蓝光LED片内波长均匀性达到0.84 nm（1σ），100mm×100mm方片波长最大最小差值低至2.4nm。针对平均波长为530nm的6英寸绿光LED，实现了片内波长均匀性1.04nm（1σ），100mm×100mm方片波长最大最小差值仅为4.6nm。

从中微官网了解到，配置方面，Prismo UniMax® MOCVD设备多达4个反应腔，可同时加工108片4英寸或40片6英寸高性能氮化镓基蓝绿光MiniLED外延晶片，通过石墨盘的调整，可扩展至同时加工164片4英寸或72片6英寸外延晶片，其工艺能力还可延展到生长8英寸外延晶片。此外，设备配置了785mm大直径石墨托盘，极大地提高了设备产能，并有效地降低了MiniLED外延片的生产成本。

图片来源：中微半导体设备官网

据悉，Prismo UniMax® MOCVD设备于今年6月份正式发布，主要用于氮化镓（GaN）基MiniLED外延片量产。12月9日，中微公司宣布Prismo UniMax® MOCVD设备订单已超100腔。

据了解，中微半导体设备有限公司成立于2004年，总部位于上海，2019年在上海证券交易所科创板挂牌上市，主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，公司产品分布有：CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设备、深硅刻蚀设备、MOCVD设备、VOC 净化设备。

其中，中微开发的Prismo系列MOCVD设备可广泛应用于生产基于III族氮化物的各类器件，包括蓝绿光LED、深紫外LED以及功率器件。目前，中微公司的MOCVD设备已在行业内主要的LED生产线上全面投入量产。

2020年，中微实现营业收入22.73亿元，同比增长16.76%；归属于上市公司股东的净利润4.92亿元，同比增长161.02%。2021年上半年，中微营业收入为13.39亿元，同比增长36.82%；归属于上市公司股东的净利润3.97亿元，同比增长233.17%。（LEDinside整理）